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        VCP專家:電鍍鋅沉積速度影響因素

        發布人:Admin  銘電科技     發布日期:2016/9/12

        鋅是兩性金屬,易溶于酸,也易溶于堿,其氧化物和氫氧化物也是兩性化合物。鋅在干燥的空氣中較穩定,在潮濕空氣與含有二氧化碳和氧的水中,表面上會生成一層致密的以堿式碳酸鋅為主的覆蓋膜,起到保護內部金屬不再受腐蝕的作用,并可使鋼鐵基體受到電化學保護。

        鍍鋅是一種防護能力較好,價格低廉,且操作簡便,電鍍過程易于實現的鍍種,它是防止鋼鐵腐蝕的最廣泛、最經濟的措施。在電鍍鋅過程中要注意的細節很多,下面就由東莞電鍍廠來總結一下可能影響鍍鋅層沉積速度的因素。

        (1)前處理不徹底。工件表面有氧化膜,影響鋅的正常沉積。

        (2)導電不良。電流在導線上消耗,分配到工件表面的電流過小。

        (3)工件含碳量高。高碳鋼、鑄鐵件等會降低氫的析出電位,工件表面析氫加速,電流效率降低。

        (4)工件綁扎過密。鍍鋅時工件局部遭到屏蔽而導致鍍層過薄。

        (5)鍍液溫度偏低。當鍍液溫度偏低時配送的電流密度相應降低,鍍層的沉積速度也必然降低。

        (6)鍍液中氫氧化鈉含量偏高。氫氧化鈉含量偏高時電流效率相應降低。

        (7)鍍液中添加劑含量偏低。添加劑含量偏低會影響分散能力,鍍層局部顯得過薄。

        (8)受鍍件面積估算不足,施鍍時配送的電流密度顯得過小。

        (9)工件懸掛方法不當,與鋅陽極間距過大,應調整位置。

        (10)工件過腐蝕。降低氫的析出電位,工件表面析氫加速電流效率降低,從而影響鋅的沉積速度。應在酸洗溶液中加入適量的緩蝕劑,局部處氧化皮過厚先用機械法除去,酸洗過程中多作檢查。

        (11)陽極鈍化。有效面積減少,影響電流的正常分布。

        (12)氫氧化鈉含量偏低。若氫氧化鈉含量偏低時,電流密度提不高,陽極鈍化。
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